甲基磺酸

防止亞錫離子水解和氧化而生成沉淀。

提高鍍液的導電能力和均鍍能力。

促進陽極溶解，提高陰極電流效率。

產(chǎn)品雜質含量低，減少雜質對電鍍過程的影響。